据报道，上海传芯半导体掩模基板研发及产业化项目日前在上海临港启动，项目将投资建成国内首条半导体级14纳米光掩膜基板生产线。

启动仪式上，传芯半导体董事长黄昶程表示，未来，传芯半导体将在临港新片区投资建设国内首条半导体级14nm光掩膜基板生产线，该半导体级先进制程光掩膜基板生产线的落地，将使光掩膜产业链中关键产品实现本地化。

光掩膜一般也称光罩、掩膜版，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成:基板和不透光材料。

据半导体专家莫大康介绍，光掩膜技术是光刻产业当中重要的一个环节。光掩膜作为集成电路的原始模板，通过光刻技术将掩膜版上的电路图案复制到晶圆上，从而批量化生产芯片等产品。随着晶体管变得越来越小，光掩膜的制造也变得越来越复杂。先进制程光掩膜基板的需求也在不断提升。

在半导体领域，英特尔、三星、台积电、中芯国际等半导体制造厂所用的光掩膜大部分由自己的专业工厂生产。非先进制程，特别是60nm及90nm以上工艺产品，产品外包的趋势非常明显。不过，独立光掩膜市场集中度很高，Photronics、大日本印刷DNP 和日本凸版印刷Toppan 三家占据80%以上的市场份额。