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世界先进宣布0.35微米650 V氮化镓制程正式量产

来源:大半导体产业网    
世界先进22日宣布,其领先的八英寸0.35微米650 V的新基底高电压氮化镓制程(GaN-on-QST)已于客户端完成首批产品系统及可靠性验证,正式进入量产。

世界先进22日宣布,其领先的八英寸0.35微米650 V的新基底高电压氮化镓制程(GaN-on-QST)已于客户端完成首批产品系统及可靠性验证,正式进入量产。


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