近日，芯源微在接受机构调研时表示，此前公司首台浸没式高产能涂胶显影机已顺利运付客户现场，并完成了各项工艺验证及光刻机联机产能验证。机台与国际主流光刻机联机作业，完成了客户端十余款光阻、多层layer量产验证，数据均达到客户量产指标。

据悉，浸没式高产能涂胶显影机与去年年底发布，标志着公司在前道涂胶显影领域实现了对28nm及以上所有工艺节点的全覆盖，即可实现全面国产替代。芯源微前道设计部总监、浸没式机台主设计师程虎曾表示，作为芯源微自主开发的第三代机型，该设备具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。