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吉盛微武汉碳化硅制造基地投产

来源:大半导体产业网    2023-12-11

12月8日,吉盛微公司武汉碳化硅制造基地在武汉经开综合保税区正式投产。

据武汉经开区官微消息,12月8日,吉盛微公司武汉碳化硅制造基地在武汉经开综合保税区正式投产。

据悉,该项目总投资约15亿元,预计2027年达产,可实现年销售收入10亿元,填补武汉碳化硅半导体材料生产领域的空白。

资料显示,近年来,盛吉盛半导体致力于推动半导体设备和关键零部件国产化,已有多款设备和零部件交付国内龙头客户。今年3月,吉盛微(武汉)新材料科技有限公司在武汉经开区注册成立,主要研发、生产制造SiC材料、SiC基聚焦环、簇射极板及晶圆舟等碳化硅半导体产业链关键设备的零部件和耗材。目前,吉盛微已经完成了刻蚀、扩散、外延、快速热处理等多个工艺的零部件、耗材开发工作,部分产品填补了国内空白,初步具备稳定的生产供货能力。


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